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真空薄膜精馏装置

简要描述:

真空薄膜精馏装置适合于具有热敏性且沸点接近的组分间分离。精馏的原理是利用混合物中两种组分挥发能力的差异,使气、液两相在精馏柱内逆向多级接触,在热能驱动和相平衡关系的约束下,使得易挥发组分(轻组分)不断从液相往气相中转移,而难挥发组分却由气相向液相中迁移,使混合物得到不断分离。

更新时间:2018-11-15

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真空薄膜精馏装置是以薄膜蒸发器为再沸器的精馏装置,包括以下主要组成部分:

-       用于汽液两相接触进行相际传质的填料式精馏柱

-       柱顶的回流比控制器

-       底部薄膜蒸发器作为再沸器

-       柱顶轻相冷凝器

-       进料系统,轻相采出系统和重相出料系统

-       加热系统,冷媒系统,真空系统等公用工程系统 

精馏的原理是利用混合物中两种组分挥发能力的差异,使气、液两相在精馏柱内逆向多级接触,在热能驱动和相平衡关系的约束下,使得易挥发组分(轻组分)不断从液相往气相中转移,而难挥发组分却由气相向液相中迁移,使混合物得到不断分离。 冷凝器从精馏柱顶提供液相回流,再沸器从柱底提供气相回流。

具备两大特点,

1. 相比于分子蒸馏,能够分离沸点接近的两个液相组分,一个具有10块理论塔板数的填料精馏柱能够分离沸点差距在10°C左右的两个组分并达到较高的纯度(具体分离效果要以工艺测试结果为准)。而在分子蒸馏中两个组分必须具有30°C以上的沸点差距才能实现有效的分离。所以核心是精馏装置,用于分离沸点比较接近的两个组分。

2. 薄膜精馏装置的另一个重要特点是底部的再沸器为薄膜蒸发器,物料在薄膜蒸发器里的停留时间很短,并且是在很低的操作压力下(最低低至1mbar)实现分离,所以能够大大降低组分的沸点,实现在较低的温度下的分离。所以更加适合于具有热敏性且沸点接近的组分间分离。

真空薄膜精馏装置基本技术参数

型号

RC40

精馏柱材质

硼硅玻璃3.3 (真空镀银)

精馏柱类型

填料式精馏柱

理论塔板数

标准精馏柱为5块理论塔板数

回流控制

采用全自动回流比控制器

薄膜蒸发器材质

硼硅玻璃3.3

薄膜蒸发器蒸发面积

0.04 m2

处理能力(取决于物料情况)

0。1-1 kg/h

最高加热温度

300°C

最低操作压力

1mbar

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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